如何掌握真空镀膜显现手印的方法
作者机构：公安部民警干校
出 版 物：《刑事技术》 (Forensic Science and Technology)
年 卷 期：1980年第1期
页 面：23-25页
主 题：手印 金属 高真空 分子 金属材料 蒸发源 小犁沟 真空镀膜
摘 要：真空镀膜显现手印是一种新的物理显现方法,它是在高真空条件下,使被镀物体表面沉积一层薄膜,以增强手印反差。如何掌握好金属分子的蒸发淀积,是直接影响镀膜质量的关键。根据我们的研究和试验,有以下几个重要因素:一、真空度金属元素在真空条件下被加热蒸发时,大量分子沿直线向四周喷射,真空度越高,气体压力越低,分子的平均碰撞次数越少,平均自由程就越长。如果压力为1毫米汞
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