研磨对某些无机晶体低温光致发光的影响
出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)
年 卷 期：1983年第3期
页 面：200-202页
主 题：光致发光光谱 nm 晶体 振动峰 低温光致发光 粉体
摘 要：K2〔Pt（CN）4〕·3H2O,Ba〔Pt（CN）4〕·4H2Q,CdS:Te和Ru(C15H11N3)2I2·H20晶体的光致发光光谱会因研磨而发生展宽和移位。CdS:Te和Ru(C15H11N3)2I2·H2O晶体分别在632nm 和628nm 处的原始电子振动峰因研磨而消失。Ru(C15H11N3)2I2·H2O晶体因研磨而在650nm 处出现一个新的电子振动峰。可得出这样的结论,光致发光光谱的变化是因研磨过程中位错的产生而引起的。
同方期刊数据库