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评定异质硅膜质量的光学方法——光“吸收因子”法

作     者：顾隆道 章熙康 林永昌 

出 版 物：《光学技术》 (Optical Technique)

年 卷 期：1982年第6期

页      面：28-31页

学科分类：07[理学] 0702[理学-物理学] 

主　　题：硅膜 玻璃膜 半导体膜 薄膜厚度 吸收因子 可见光波段 间接测量误差 衬底材料 反射光谱测量 电子衍射 波数 吸收边 淀积速率 光谱图 异质 质量 

摘      要：目前,异质硅膜作为半导体器件材料已受到大家重视,其中以蓝宝石为衬底的气相外延硅片(SOS)已成功地应用于表面场效应集成电路的生产中。外延膜的质量对电路的性能起着关键作用,因此对薄膜质量的检测与控制,

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