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铂/钴多层膜──下一代光磁数据存储介质

作     者:叶靖波 

作者机构:上海交通大学计算中心 

出 版 物:《新电脑》 (Computer and Peripherals)

年 卷 期:1994年第18卷第2期

页      面:56-60页

学科分类:08[工学] 0803[工学-光学工程] 

主  题:存储介质 多层膜 光学薄膜 外存空间 硬盘驱动器 温盘机 磁盘驱动器 光磁盘 居里点 居里温度 下一代 磁性薄膜 磁性膜 磁性材料 极化偏转角 

摘      要:铂/钴多层膜──下一代光磁数据存储介质ByP.D·Gurney当今个人机的心脏是为软件程序和数据提供长期存储能力的硬盘驱动器。Windows和基于图形接口应用的增长,让用户可同时运行若干程序,相应地要求数据外存设备的存贮能力要有进一步的增长Windo...

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