锕系配合物中Van der Waals能与配位键能之间的平衡Ⅰ.

作     者：冯锡璋 Feng Xi-Zhang(Application Department, Institute of High Energy Physics, Academia Sinica, Beijing)

作者机构：中国科学院高能物理研究所应用部 北京 

出 版 物：《化学学报》 (Acta Chimica Sinica)

年 卷 期：1987年第45卷第1期

页      面：65-67页

核心收录：

学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 070304[理学-物理化学(含∶化学物理)] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0703[理学-化学] 

基　　金：中国科学院科学基金 

主　　题：配位键 Van der Waals 配位原子 弱键 锕系 键长 原子配位 键能 实验数据 镧系 

摘      要： 引言本文通过分析一些弱键化合物,如锕系配合物中配位键能与Van der Waals能之间的平衡,得出配位键能与配位原子间的Van der Waals最大吸引能相近的结果。这是对堆积模型的一个有力支持,并将成为进一步发展该模型之基础。在一些弱键化合物,如锕系与镧系配合物中,配位键能与Van der Waals能之间的平衡导致配位原子的“饱和堆积和“均匀堆积,并且这些包含在堆积模型中的堆积特性已在分析大量国内外文献的实验数据中得到证实。