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离子镀碳膜

作     者:D.G.Teer M.Salama 邵本逑 

出 版 物:《摩擦学学报》 (Tribology)

年 卷 期:1985年第1期

页      面:52-54页

主  题:离子镀 蒸发源 摩擦系数 化学镀 碳膜 

摘      要:利用电弧或电子枪蒸发源的离子镀工艺可成功地沉积碳膜。该膜具有良好的粘结性、耐磨性以及低的摩擦系数。 衍射分析表明,沉积的碳膜呈石墨状态。本文介绍镀膜工艺、膜的粘结性、摩擦磨损试验以及衍射分析等。

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