带挡板阀和液氮冷底板的超高真空镀膜设备
THE ULTRAHIGH VACUUM EQUIPMENT FOR FILMING WITH A BLOCKADE VALVE AND A SUBSTRATE AT LIQUID NITROGEN TEMPERATURE作者机构：中国科学技术大学物理系 中国科学院等离子体物理研究所
出 版 物：《低温物理学报》 (Low Temperature Physical Letters)
年 卷 期：1985年第2期
页 面：166-168页
摘 要：本文报道了一台具有挡板阀和液氮冷底板的超高真空镀膜设备.它具有如下特点: 第一,真空室暴露大气,挡板阀可长时间保持泵的真空度在1×10;托. 第二,它比未设置挡板阀时大大缩短了工作周期. 第三,真空室内样品衬底的温度在77K与室温之间连续可调. 目前我国生产的超高真空镀膜设备,由于不加超高真空阀门,装卸样品时泵体要暴露于大气,致使泵运行一段时间后,其极限真空度一般在10;托数量级.
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