直流磁控溅射制备YBCO高Tc超导薄膜过程中靶成分的在线监测
THE MONITORING OF TARGET CONSTITUENTS IN LINE DURING THE DEPOSITION OF YBCO THIN FILM BY SPUTTERING作者机构：四川工业学院物理系，复旦大学材料科学系
出 版 物：《低温物理学报》 (Low Temperature Physical Letters)
年 卷 期：1995年第17卷第3期
页 面：242-248页
核心收录：
学科分类：080705[工学-制冷及低温工程] 07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 0807[工学-动力工程及工程热物理] 0702[理学-物理学]
主 题：超导薄膜 光电倍增管 直流磁控溅射 表面成分 T_c YBCO 单色仪 在线监测 中靶
摘 要：本文阐述了用单色仪和光电倍增管对平面直流磁控溅射制备ＹＢＣＯ高Ｔｃ超导薄膜过程中靶的放电成份变化情况进行在线监测的实验方法、设备和过程，得到了Ｏ２：Ａｒ＝１：４时，靶表面成份随时间变化的关系和相应薄膜的质量，并对实验结果进行了讨论．
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