多弧离子镀Ti-N镀膜的扩散屏障作用
ROLE OF MULTI-ARC PLATED Ti-N FILM AS A DIFFUSION BARRIER作者机构：清华大学 北京有色金属研究总院 北京科技大学
出 版 物：《金属学报》 (Acta Metallurgica Sinica)
年 卷 期：1994年第14期
页 面：77-81页
核心收录：
学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：设计了３种复合镀层系，研究了多弧离子镀Ｔｉ－Ｎ镀膜对Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｏ的扩散屏障作用及Ｔｉ－Ｎ镀膜在１０００和１１００℃长期时效时的热稳定化结果表明，在１０００℃以下时效时，Ｔｉ－Ｎ镀膜稳定性良好，并可有效地阻止Ａｌ向基材扩散，可减缓、阻止Ｎｉ，Ｃｏ在ＣｏＣｒＡｌＴａＹ涂层与基体间的互扩散行为；在１１００℃时效时，Ｔｉ－Ｎ镀膜未分解，也不与基材及ＣｏＣｒＡｌＴａＹ涂层间发生互扩散，但组织形态由薄膜变为颗粒状，颗粒状Ｔｉ－Ｎ无法阻止Ｎｉ，Ｃｏ在ＣｏＣｒＡｌＴａＹ涂层与基材间的互扩散．
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