对黄铜渗硅后所形成的特异结构的探讨
A DISCUSSION ABOUT THE FORMATION OF STRANGE STRUCTURES BY SILICONIZING BRASS作者机构：华南工学院材料科学研究所 华南工学院材料科学研究所 美国麻塞诸塞州剑桥麻省理工学院材料科学与工程系 美国麻塞诸塞州剑桥麻省理工学院材料科学与工程系扫描电镜室 教授 主任
出 版 物：《华南理工大学学报(自然科学版)》 (Journal of South China University of Technology(Natural Science Edition))
年 卷 期：1987年第4期
页 面：33-36页
主 题：铜基合金 孪晶间界 特异结构 黄铜渗硅 锯齿形薄层的网状物 双晶系统
摘 要：一系列Cu-Z_n合金放入密封的坩埚中进行渗硅,坩埚内的粉末包括70ωt%si,28ωt%Al2O3和2ωt%NH4Cl,坩埚加热到1050℃保持5小时并慢冷至室温后,此时发现了一些极不寻常的显微组织,它呈现出锯齿形薄层的网状物,式样经X光衍射法,测出有α,β,γ和一个未决定的相,又用电子显微分析测试样成分,用扫描电镜观察其显微结构细节,又用扫描透射电镜研究特异结构微细部分。本文研究目的是测定合金会出现什么棚及产生“特异结构的机理。
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