X射线衍射仪粉末法测定硅点阵常数的精确度和准确度
The Precision and Accuracy in Measuring the Lattice Constant of Silicon with X-Ray Powder Diffractometry作者机构:工程物理系
出 版 物:《清华大学学报(自然科学版)》 (Journal of Tsinghua University(Science and Technology))
年 卷 期:1980年第2期
页 面:103-113页
主 题:粉末法 点阵常数 焦点 奇点 外推 粉末衍射仪 峰值法
摘 要:以普通粉末衍射仪用单边法并峰值定位法(不借助内标)测定高纯硅粉的点阵常数,目的是提高测定的精确度和准确度。考虑了各种误差。对焦点偏移误差进行了分析、确定了准直的要求并以实验方法消除了此误差。用实验方法测定了衍射峰位的垂直发散几何偏差从而解决了此误差的校正问题。对峰值法的Lorentz等物理偏差进行了以实验数据为根据的校核。多次点阵常数测定值的标准误差仅为百万分之三,达到了高精确度。用不同靶的特征谱线对这一结果进行了验证,结果良好。因解决了上述误差的校正问题,准确度也达到相应水平,因而解决了单晶法与多晶法测定硅点阵常数不符的问题。分析及实验数据说明用普通衍射仪并单边峰值定位法测定结晶良好的高对称晶系样品的点阵常数,其精确度和准确度可达百万分之四。