作 者:高增 唐学渊 朱风顺 韩同生 王瑞升
作者机构:中国科学院大连化学物理研究所
出 版 物:《低温与特气》 (Low Temperature and Specialty Gases)
年 卷 期:1989年第4期
页 面:26-28页
主 题:脱氧管 沾污 出口 氧浓度 ppm 金属 金属材料 稀有气体 升/分
摘 要:言前随着新技术的发展,各方面对气体纯度的要求越来越高,特别是对气体中杂质氧和水的要求更为突出。半导体及微电子器件生产工艺用的携带气、稀释气、反应气和保护气;电真空加工用的稀有气体、常用气体;色谱及其它精密仪器用的载气、零点气及校正用标准气;金属有机合成、催化剂研制与