氧流量对磁控溅射ZrO_2薄膜光学性能的影响
Influence of Oxygen Flow on Optical Properties of ZrO_2 Films by Magnetron Sputtering作者机构：西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测实验室西安710032
出 版 物：《表面技术》 (Surface Technology)
年 卷 期：2011年第40卷第5期
页 面：18-20,53页
学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：采用反应磁控溅射法在k9玻璃基底上沉积ZrO2薄膜。用轮廓仪、椭圆偏振仪和分光光度计,分别测试薄膜的厚度、折射率、消光系数和透过率,研究了不同氧流量对薄膜沉积速率和光学特性的影响。结果表明:随着氧气流量增加到22～24mL/min(标准状态下)时,沉积速率从6.8nm/s下降到2.5nm/s,并趋于稳定;在入射波长630nm处,薄膜的折射率为1.95,消光系数小于10-5;在可见及近红外波段,薄膜平均透过率高于80%。
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