极紫外投影光刻掩模的多层膜与照明误差
Multilayers on Extreme Ultraviolet Lithography Masks and Illumination Error作者机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)
年 卷 期：2006年第35卷第5期
页 面：667-670页
核心收录：
基 金：应用光学国家重点实验室资助项目
摘 要：讨论了极紫外投影光刻掩模的反射光谱随多层膜参量的变化,通过曲线拟合得到了峰值反射率、带宽和中心波长与多层膜粗糙度、材料比值以及周期厚度的9个函数关系·模拟了6镜极紫外投影光刻系统的反射光谱,并计算了晶圆片处的相对照明强度·分析了由掩模在晶圆片处引入的照明误差,给出了照明误差的合成公式·
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