MBE梯度掺杂GaAs光电阴极激活实验研究
Activation of Gradient Doping GaAs Photocathodes Grown by Molecular Beam Epitaxy作者机构:南京理工大学电子工程与光电技术学院
出 版 物:《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)
年 卷 期:2005年第25卷第6期
页 面:401-404页
学科分类:080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程]
基 金:国防科技"十五"重点预研项目资助课题(No.404050501D)
主 题:分子束外延 梯度掺杂 GaAs光电阴极 量子效率 激活
摘 要:本文首次利用分子束外延(MBE)生长了多种由体内到表面掺杂浓度由高到低的梯度掺杂反射式GaAs光电阴极材料,并进行了激活实验,结果表明,表面低掺杂浓度适中,外延层厚度2μm^3μm以及衬底为重掺杂p型GaAs的梯度掺杂GaAs光电阴极能够获得较高灵敏度。在优化激活工艺的条件下,梯度掺杂GaAs光电阴极获得了1798μA/lm的最高积分灵敏度,比采用同样方法制备的均匀掺杂GaAs光电阴极高30%以上。梯度掺杂GaAs光电阴极表面掺杂浓度较均匀掺杂的低,第一次给Cs时间较长,第一次Cs、O交替时要调整好Cs/O比,并在整个激活过程中保持不变。一个高量子效率梯度掺杂GaAs光电阴极的获得依赖于梯度掺杂结构和激活工艺两个方面的优化。