后发国家研发投入的影响因素分析——知识产权保护的调节作用

作     者：吴先明 黄春桃 张亭 WU Xian-ming;HUANG Chun-tao;ZHANG Ting

作者机构：武汉大学经济与管理学院湖北武汉430072 

出 版 物：《科学学研究》 (Studies in Science of Science)

年 卷 期：2016年第34卷第4期

页      面：503-511页

核心收录：

学科分类：12[管理学] 120204[管理学-技术经济及管理] 1202[管理学-工商管理] 

基　　金：国家社会科学基金重点项目(12AZD034) 教育部哲学社会科学研究重大课题攻关项目(14JZD017) 

主　　题：后发国家 研发投入 影响因素 知识产权保护 

摘      要：文章基于2003-2012年世界86个后发国家的研发数据,运用面板数据的固定效应模型,对后发国家研发投入的影响因素进行研究分析。通过检验发现:R&D研究员数、金融发展对后发国家研发投入具有显著的正向影响,而制造业进口和FDI净流入对后发国家研发投入具有显著的负向影响。进一步研究显示,知识产权保护程度对金融发展、制造业进口与后发国家研发投入的关系具有明显的正向调节作用,即知识保护程度越高的后发国家,金融发展越能促进研发投入,制造业进口则越抑制研发投入。未来研究可以进一步从动态视角,不仅探讨影响研发投入的因素,还要分析其后续的研发绩效。