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电感耦合等离子体质谱法测定高纯钨中15种痕量杂质元素

Determination of 15 Trace-Impurities in High Purity Tungsten by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry

作     者:王长华 李继东 潘元海 WANG Chang-hua;LI Ji-dong;PAN Yuan-hai

作者机构:北京有色金属研究总院北京100088 

出 版 物:《质谱学报》 (Journal of Chinese Mass Spectrometry Society)

年 卷 期:2011年第32卷第4期

页      面:216-221页

核心收录:

学科分类:081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070302[理学-分析化学] 0703[理学-化学] 

基  金:国家科技支撑计划(2006BAF07B02)资助 

主  题:电感耦合等离子体质谱(ICP-MS) 反应池技术 高纯钨 杂质元素 

摘      要:采用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)法测定高纯钨中杂质元素含量;应用H2反应池技术消除复合离子对K、Ca、Fe和Si等元素的干扰;考察了溶液酸度、基体效应等条件对测定结果的影响;以内标校正法补偿基体效应,优化选择了测定同位素和内标元素,最终建立高纯钨中15种杂质元素含量的测定方法。方法测定下限介于0.12~0.50μg/g,加标回收率在96.1%~110.6%之间,相对标准偏差小于8%。采用该方法测定高纯钨条和钨粉两种实际样品,可以满足4N^5N高纯钨的测定。

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