电感耦合等离子体质谱法测定高纯钨中15种痕量杂质元素
Determination of 15 Trace-Impurities in High Purity Tungsten by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry作者机构:北京有色金属研究总院北京100088
出 版 物:《质谱学报》 (Journal of Chinese Mass Spectrometry Society)
年 卷 期:2011年第32卷第4期
页 面:216-221页
核心收录:
学科分类:081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070302[理学-分析化学] 0703[理学-化学]
主 题:电感耦合等离子体质谱(ICP-MS) 反应池技术 高纯钨 杂质元素
摘 要:采用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)法测定高纯钨中杂质元素含量;应用H2反应池技术消除复合离子对K、Ca、Fe和Si等元素的干扰;考察了溶液酸度、基体效应等条件对测定结果的影响;以内标校正法补偿基体效应,优化选择了测定同位素和内标元素,最终建立高纯钨中15种杂质元素含量的测定方法。方法测定下限介于0.12~0.50μg/g,加标回收率在96.1%~110.6%之间,相对标准偏差小于8%。采用该方法测定高纯钨条和钨粉两种实际样品,可以满足4N^5N高纯钨的测定。