光学直接监控技术在镀膜中的应用(英文)

作     者：哈哥顿 哈咯 高茨曼 瑞纳 克鲁哥 维纳 祖勒 阿冯 HAGEDORN Harro;GOETZELMANN Rainer;KLUG Werner;ZOELLER Alfons

作者机构：德国莱宝光学有限公司阿兹瑙d63755 

出 版 物：《光学仪器》 (Optical Instruments)

年 卷 期：2006年第28卷第4期

页      面：88-94页

学科分类：070207[理学-光学] 07[理学] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

主　　题：光学直接监控 高成品率 等离子辅助沉积 等离子辅助反应磁控溅射 塑料基材 

摘      要：展示真实的工艺结论,介绍在基片本身或监控片上进行光学直接监控的方法应用于大面积(最大基片盘直径1400 mm)镀膜的成功经验。直接监控技术可以最快速的再现高难度的设计要求,保证大面积,高精度镀膜设备上的高成品率。文中列举的各类多层膜的实验结果清楚地证明了这种强大的监控手段的应用潜力。可使用直接监控方式镀膜的膜系包括截至滤光片,偏振膜,分光膜以及多腔带通滤光片。所有这些膜系都是在PIAD(等离子辅助沉积)和PARMS(等离子体辅助反应磁控溅射)的方式下完成的。实验的重复性和均匀性体现了直接监控的优势。在塑料基底上应用等离子体辅助工艺的关键在于调整离子源或等离子源本身。他们改变热度和等离子轰击的能力通常是工艺的关键因素,从而使工艺更适合于象塑料这样对温度和等离子轰击敏感的基材。