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SIMS对氘靶钛膜中氘的分布研究

STUDY ON DEUTERIUM DISTRIBUTION IN DEUTERIUM-TITANIUM TARGET BY SIMS

作     者:李宏发 翟国良 

作者机构:中国工程物理研究院核物理与化学研究所 

出 版 物:《原子能科学技术》 (Atomic Energy Science and Technology)

年 卷 期:1996年第30卷第1期

页      面:65-68页

核心收录:

学科分类:08[工学] 082701[工学-核能科学与工程] 0827[工学-核科学与技术] 

主  题:真空镀膜 SIMS 纵深分布 氘丰度 氘靶 钛膜 

摘      要:用负的SIMS分析技术进行H同位素相对含量随Ti膜深度变化的分析,获得了氘随膜深度变化的分布曲线。在接近膜表面的一个深度范围内,除有明显的O-、CO-和很微弱的OH-、OD-及CHO-峰谱外,还有很大的D-二次离子质谱峰,氘的丰度估计约为98%。在靶膜内部,氘的丰度达99%以上。在接近膜与底衬交界面的地方,D-谱峰很小,O-谱峰为痕迹量。文章对分析结果进行了讨论。

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