不锈钢衬底的抛光处理对碳纳米管薄膜场发射性能的影响(英文)

作     者：樊志琴 朱庆芳 杨仕娥 姚宁 鲁占灵 张兵临 FAN Zhi-qin;ZHU Qing-fang;YANG Shi-e;YAO Ning;LU Zhan-ling;ZHANG Bing-lin

作者机构：河南工业大学数理系郑州450052 郑州大学材料物理教育部重点实验室郑州450052 

出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)

年 卷 期：2005年第34卷第5期

页      面：954-959页

核心收录：

学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 

主　　题：碳纳米管膜 场发射 MPCVD 拉曼光谱 

摘      要：在抛光的和未抛光的不锈钢衬底上,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法从甲烷和氢气的混合气体中沉积碳纳米管薄膜,并对其场发射性能进行了研究。实验发现,不锈钢衬底的机械抛光能降低碳纳米管膜的开启场强,增大它的发射电流密度。在同一场强7.5 V/μm下,衬底未抛光样品的电流密度为2.9 mA/cm2,而衬底抛光样品的电流密度达到5.5 mA/cm2。低开启场强和大发射电流密度意味着β增大,说明机械抛光能使碳纳米管膜的β增大。