咨询与建议
  • 全部检索
  • 电子图书
  • 电子期刊
  • 纸本馆藏
  • 南通市公共图书馆
高级检索

看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >CuCr触头中Cr含量对真空断路器开断能力的影响 收藏
分享

CuCr触头中Cr含量对真空断路器开断能力的影响

作     者：张蔚平 

作者机构：日本东芝公司 

出 版 物：《真空电器技术》 

年 卷 期：1998年第4期

页      面：15-19页

学科分类：080801[工学-电机与电器] 0808[工学-电气工程] 08[工学] 

主　　题：真空断路器 CuCr触头 开断能力 Cr 

摘      要：我们研究季ＣｕＣｒ触头中Ｃｒ的含量在１２．５％￣７５％（重量比）范围内变化时，ＣｕＣｒ触头对电流开断后的电流开断能力、电弧形态、阳极熔融时间和触头侵蚀的影响。研究结果表明：当Ｃｒ含量在上述范围内变化时，其含量越低，电流开断能力就越好。也证明了Ｃｒ含量减少时，电流开断后电弧的集聚时间和阳极熔融时间变短，而ＣｕＣｒ触头的 侵蚀却增大。根据这点。

电子资源

读者评论 与其他读者分享你的观点

学校读者
用户名:未登录
我的评分