射频辉光放电飞行时间质谱法分析薄膜:脉冲模式与连续模式的比较
Radiofrequency glow discharge time of flight mass spectrometry for thin films analysis:pulsed mode versus continuous mode作者机构:奥维多大学科学学院物理系 奥维多大学化学学院物理和分析化学系 卡塔尼亚大学化学系 Horiba Jobin Yvon公司 Tofwerk AG公司 EMPA材料科技有限公司
出 版 物:《冶金分析》 (Metallurgical Analysis)
年 卷 期:2009年第29卷第11期
页 面:1-7页
核心收录:
学科分类:081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070302[理学-分析化学] 0703[理学-化学]
主 题:射频辉光放电 飞行时间质谱法 薄膜 脉冲模式 连续模式
摘 要:高级多层材料的直接表面和深度分布化学分析要求了解多维信息,包括同时了解元素和分子信息。用飞行时间质谱法(TOFMS)检测的脉冲式射频辉光放电(pulsed rf-GDs)可以从种类繁多的材料中直接提供化学信息,且简单快捷。另一方面,脉冲式射频辉光放电中输入功率的时间分布由于不同的离子化机理产生3个主要放电阶段(峰前,高峰平稳,峰后)。结果证明将辉光放电离子源和一个快速飞行时间质谱仪相结合能够实现在不同的脉冲阶段几乎同时获得元素和分子信息。