高通量激光装置真空系统洁净度控制

作     者：吴文龙 林东晖 牛龙飞 熊迁 王振国 刘建国 陈文棋 吴悦 刘勇 王琳 姚轲 陈林 Wu Wenlong;Lin Donghui;Niu Longfei;Xiong Qian;Wang Zhenguo;Liu Jianguo;Chen Wenqi;Wu Yue;Liu Yong;Wang Lin;Yao Ke;Chen Lin

作者机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2025年第37卷第1期

页      面：19-25页

核心收录：

学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程] 0801[工学-力学（可授工学、理学学位）] 

基　　金：中国工程物理研究院激光聚变研究中心青年人才基金项目(RCFPD6-2022-7) 

主　　题：高通量激光装置 真空系统 洁净度 光学元件 透过率 损伤密度 

摘      要：在高通量激光装置真空系统运行过程中,泵组润滑油在真空环境下产生的分子污染可能扩散沉积在光学系统元件表面,在高通量激光辐照下诱导损伤,降低光学元件负载能力。针对真空系统洁净度控制开展研究,构建了包括真空泵组优化、增加低温冷阱吸附、增加冷阱在线加热再生工艺的真空系统洁净度控制方法。实验研究结果表明:真空系统经过120 h连续运行后,平均24 h非挥发性残留物表面沉积量维持在2.86×10^(-9)g/cm^(2)洁净水平,熔石英光学试片考核组和对照组在350 nm处的透过率以及12.3 J/cm^(2)通量以下的损伤密度曲线基本一致,证明了该方法的有效性。