用于超分辨成像的低波前畸变二向色镜的研制
作者机构：沈阳仪表科学研究院有限公司
出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)
年 卷 期：2025年
核心收录：
摘 要：为满足超分辨荧光检测系统中高精度成像及快速检测的需求，研制了双波段低波前畸变二向色镜。通过研究退火温度对Ta2O5与SiO2材料膜层应力的影响规律，反演拟合出两种材料膜层应力抵消时的膜层厚度比与退火温度关系式；基于拟合结果设计了一种双波段低波前畸变的膜系结构，通过退火法实现双波段低波前畸变二向色镜的制备。经测试，采用2 mm厚度的石英基底，光谱测试结果为Tavg97%@504～544 nm、Tavg97%@588～800 nm,Tabs2%@450～491 nm、Tabs2%@556～566 nm，波前畸变（反射PV值）测试结果为0.087λ。
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