SrBi_2Ta_2O_9/Bi_4Ti_3O_(12)复合铁电薄膜的制备与特性研究
Preparation and characterization of SrBi_2Ta_2O_9/Bi_4Ti_3O_(12) multiple thin films on p-Si substrate作者机构:桂林电子科技大学信息材料科学与工程系桂林541004
出 版 物:《物理学报》 (Acta Physica Sinica)
年 卷 期:2007年第56卷第12期
页 面:7315-7319页
核心收录:
学科分类:08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)]
基 金:国家自然科学基金(批准号:50262001)资助的课题.~~
主 题:SrBi2Ta2O9 Bi4Ti3O12 复合铁电薄膜 溶胶凝胶工艺
摘 要:采用溶胶凝胶工艺在p-Si衬底上制备了SrBi2Ta2O9/Bi4Ti3O12复合铁电薄膜.研究了SrBi2Ta2O9/Bi4Ti3O12复合薄膜的微观结构与生长行为、铁电性能和疲劳特性.研究表明:Si衬底Bi4Ti3O12薄膜易于沿c轴择优生长,并有利于SrBi2Ta2O9/Bi4Ti3O12复合薄膜的生长.合理的SrBi2Ta2O9/Bi4Ti3O12厚度配比能获得较好的铁电性能和优良的抗疲劳特性,SrBi2Ta2O9/Bi4Ti3O12厚度配比为1∶3的复合薄膜的剩余极化强度和矫顽电场分别为8.1μC/cm2和130kV/cm,其无疲劳极化开关次数达1011以上.