化学气相淀积反应器中成核与成膜控制
CONTROLLING OF PARTICLE FORMATION AND FILM GROWTH IN THE CVD REACTOR作者机构：华东化工学院技术化学物理研究所上海200237
出 版 物：《化工学报》 (CIESC Journal)
年 卷 期：1993年第44卷第5期
页 面：523-530页
核心收录：
学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 070304[理学-物理化学(含∶化学物理)] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0703[理学-化学]
基 金：国家自然科学基金资助项目
摘 要：基于气溶胶动力学和化学反应动力学,建立了化学气相淀积(CVD)反应器中普适动力学方程,导出了CVD反应器中超细颗粒粒径分布谱函数和薄膜淀积速率的计算方法;研究了操作参数对钛酸丁酯高温裂解过程中成核与成膜的影响.用成核与成膜竞争判据——H准数,研究了CVD反应器中成核与成膜的控制策略.
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