用InGaAs材料制作的2.6μm光电探测器
2.6 μm InGaAs photodetector作者机构：重庆光电技术研究所重庆400060
出 版 物：《半导体光电》 (Semiconductor Optoelectronics)
年 卷 期：1999年第20卷第2期
页 面：79-82页
学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程]
摘 要：介绍了２ ．６ μｍ Ｉｎ０ ．８２ Ｇａ０ ．１８ Ａｓ／ Ｉｎ Ｐ Ｐ－ Ｎ 异质结光电探测器，组分渐变层对调节 Ｉｎ Ｐ衬底与 Ｉｎ０ ．８２ Ｇａ０ ．１８ Ａｓ 之间的２ ％ 的晶格失配是有效的。在２ ．１ μｍ ～２ ．６ μｍ 区域，量子效率为７０ ％ ～７５ ％ ；室温下约－ ２ Ｖ 时， Ｉｄ ＝ ３ ．５ μ Ａ。
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