聚乙烯亚胺添加剂对碱性镀铜电沉积行为的影响
Effect of Polvethyleneimine on Electrodeposition Behavior of Copper in an Alkaline Bath作者机构：湖北工业大学化学与环境工程学院湖北武汉430068 武汉材料保护研究所湖北武汉430030 黄石理工学院化工与材料学院湖北黄石435003
出 版 物：《材料保护》 (Materials Protection)
年 卷 期：2010年第43卷第2期
页 面：1-3,35页
核心收录：
学科分类：081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术]
基 金：湖北省教育厅科学研究计划重点项目(B20081403)
主 题：碱性镀铜 聚乙烯亚胺添加剂 镀层表面形貌 择优取向 连续成核
摘 要：为了研究碱性镀铜中添加剂对铜电沉积行为的影响,采用一种新型柠檬酸碱性镀铜工艺制备了铜镀层,研究了聚乙烯亚胺添加剂在新型柠檬酸盐碱性镀铜中的作用机理。运用SEM,XRD和电化学方法对镀液、镀层进行了分析。结果表明:聚乙烯亚胺有利于获得较宽的电流密度范围和均匀细致的镀层,使铜镀层表现出(111)晶面的择优取向,铜的沉积为侧向生长;聚乙烯亚胺优先吸附在阴极高电流密度处,并对铜沉积产生较强的阻化作用;铜电沉积的初期行为服从扩散控制和三维连续成核方式生长规律。
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