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正入射Mo/B_4C软X射线多层膜

NormalIncidence Mo/B4C Soft X-Ray Multilayer

作     者:吕俊霞 马月英 张俊平 曹健林 

作者机构:中国科学院长春光学精密机械研究所 

出 版 物:《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期:1998年第18卷第1期

页      面:109-111页

核心收录:

学科分类:0808[工学-电气工程] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基  金:国家自然科学基金 国家科委863高科技资助 

主  题:软X射线 多层膜 正入射 钼/碳化硼 薄膜光学 

摘      要:采用Mo/B4C材料在短波长波段(λ10.0nm)进行软X射线多层膜实验研究。在指定波长(8.0nm附近)处对多层膜进行结构设计,并制备出了周期结构准确的Mo/B4C多层膜样品。

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