耐高温光刻胶光栅模板的制作与转移技术及其应用
High temperature resistant photoresist grating molding fabrication and replication technique and its application作者机构：清华大学工程力学系
出 版 物：《光学技术》 (Optical Technique)
年 卷 期：1997年第23卷第4期
页 面：19-21页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080102[工学-固体力学] 0801[工学-力学（可授工学、理学学位）]
摘 要：作为试件变形传感元件的云纹光栅的制作是云纹干涉法的关键技术。本文提出了在１２０～２００℃高温下使用的光刻胶光栅模板的制作及在此温度下试件栅的复制工艺，并利用此技术研究了新型微电子封装组件在１２５～２０℃温度载荷下的热变形。实验结果表明：采用该方法可以获得高质量的试件栅，云纹条纹质量好。
维普期刊数据库
同方期刊数据库