高气压Ar气对激光诱导Cu等离子体电子温度的影响

作     者：陈金忠 史金超 郭庆林 怀素芳 魏艳红 CHEN Jin-zhong;SHI Jin-chao;GUO Qing-lin;HUAI Su-fang;WEI Yan-hong

作者机构：河北大学物理科学与技术学院河北保定071002 

出 版 物：《光谱学与光谱分析》 (Spectroscopy and Spectral Analysis)

年 卷 期：2007年第27卷第6期

页      面：1047-1050页

核心收录：

学科分类：07[理学] 070302[理学-分析化学] 0804[工学-仪器科学与技术] 0703[理学-化学] 0702[理学-物理学] 

基　　金：河北省自然科学基金项目(A2006000951)资助 

主　　题：激光诱导等离子体 电子温度 高气压 谱线强度 

摘      要：用高能量钕玻璃激光器产生的脉冲激光(0～25J)烧蚀Ar气氛中的Cu靶,观测了激光诱导Cu等离子体的发射光谱强度随环境气压(0·1～0·5MPa)的增强规律。为了探讨辐射增强的机理,在局部热平衡(LTE)近似条件下,测量了等离子体的电子温度随环境气压的变化。实验结果表明,等离子体的电子温度随着环境气压的升高而正比增加。为了进一步了解等离子体的空间行为,测量了Ar气气压分别为0·1,0·3,0·5MPa时,等离子体电子温度的空间分布。