用离子束溅射淀积的氧化物薄膜的折射率
Refractive Indexes of Oxidized Thin Films Deposited by Ion Beam Sputtering作者机构：浙江大学现代光学仪器国家重点实验室杭州310027
出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)
年 卷 期：2002年第22卷第3期
页 面：290-293页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
主 题：离子束溅射淀积 氧化物薄膜 折射率 滤光片 光通信 波分复用器/解复用器
摘 要：介绍了用于波长为 15 5 0nm光通讯波分复用 /解复用滤光片的离子束溅射的Ta2 O5和SiO2 薄膜在法里珀罗多层膜中的折射率的实时拟合方法及拟合结果 ,给出了它们的淀积时间、淀积速率和计算的光学厚度 。
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