基于红外照射仿真的快速搜索相关跟踪干扰点研究

作     者：唐聪 殷松峰 凌永顺 王一程 杨星 徐凯 Tang Cong;Yin Songfeng;Ling Yongshun;Wang Yicheng;Yang Xing;Xu Kai

作者机构：电子工程学院安徽合肥230037 红外与低温等离子体安徽省重点实验室安徽合肥230037 脉冲功率激光技术国家重点实验室安徽合肥230037 

出 版 物：《红外与激光工程》 (Infrared and Laser Engineering)

年 卷 期：2016年第45卷第1期

页      面：161-166页

核心收录：

学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：安徽省自然科学基金(1408085QF131 1508085QF121) 

主　　题：干扰点搜索 红外照射仿真 相关跟踪 干扰效率 

摘      要：通过人工红外照射改变目标与背景的红外辐射特性能够对相关跟踪形成有效干扰,其中,红外照射的位置对干扰效果具有重要影响。为提升红外照射干扰相关跟踪的效率,文中建立了红外照射仿真搜索相关跟踪干扰点模型,对干扰相关跟踪的有效照射位置进行快速搜索。首先,运用Trace Pro光线追迹软件建立了真实实验条件下的红外照射系统模型,并利用高斯模型对照射光斑的照度分布进行了拟合。然后,在一定空间范围内,采用二维扫描的方式进行真实照射干扰和仿真照射干扰对比实验,结果表明:仿真照射与真实照射的干扰结果一致性达到了98%,且仿真照射找出了真实照射条件下干扰相关跟踪的全部干扰点,从而很好地验证了文中方法的有效性。