氮气压力对烧结氮化硅性能和显微结构的影响
Effects of Nitrogen Pressure on the Properties and Microstructure of Gas Pressure Sintered Si_3N_4作者机构：中国科学院上海硅酸盐研究所
出 版 物：《无机材料学报》 (Journal of Inorganic Materials)
年 卷 期：1991年第6卷第2期
页 面：160-165页
核心收录：
学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：研究了添加 Y_2O_3和 La_2O_3的气压烧结氮化硅陶瓷的性能和显微结构之间的关系,详细探讨了氮气压力对相组成、显微结构和0性能的影响。结果表明,所得氮化硅材料是由长柱状的β-Si_3N_4主晶相和微量的(Y,La)_2O_3(?)Si_2N_2O、2(Y,La)_2O_3 Si_2N_2O、La_5(SiO_4)_3N 和 LaYO_3晶界结晶相构成。在实验的基础上指出,控制烧成的临界状态可能是改善 Si_3N_4材料性能的新途径。
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