基于近场静电纺丝的微/纳米结构直写技术
Micro/Nano-Structure Direct-Write Technology Based on Near-Field Electrospinning作者机构：厦门大学机电工程系厦门361005
出 版 物：《纳米技术与精密工程》 (Nanotechnology and Precision Engineering)
年 卷 期：2008年第6卷第1期
页 面：20-23页
核心收录：
学科分类：07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0807[工学-动力工程及工程热物理] 0804[工学-仪器科学与技术] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0802[工学-机械工程] 0703[理学-化学] 0811[工学-控制科学与工程] 0801[工学-力学（可授工学、理学学位）] 0702[理学-物理学]
基 金：国家自然科学基金资助项目(50675184) 回国留学人员基金资助项目 厦门大学新世纪优秀人才基金资助项目
摘 要：基于近场静电纺丝（舾），研究了可用于柔性电子制造的微／纳米结构直写技术．构建了电极、收集板可协调运动的直写实验平台，分析了电纺丝参数对微／纳米结构直写过程的影响和直写参数间的匹配．通过缩短电纺丝距离实现对直写过程的控制，分别采用直径为25μm的实心探针针尖和内径为232μm的空心注射针尖作为电纺丝喷头，可有序地直写出直径为50—500nm的纳米纤维和线宽为1—8μm的微米结构．实验结果表明：微米结构线宽随收集板速度和PEO溶液浓度的变大而变大；直写工作电压随收集板运动速度的变大而减小，随电极至收集板距离的增加而变大．协调电极与收集板运动速度，平行直写微米结构间距可控制在100-180μm之间．
维普期刊数据库
同方期刊数据库