MEVVA磁过滤等离子技术制备的Fe纳米颗粒薄膜结构

作     者：程国安 刘华平 赵勇 郑瑞廷 梁昌林 陈亮 CHENG Guo-an;LIU Hua-ping;ZHAO Yong;ZHENG Rui-ting;LIANG Chang-lin;CHEN Liang

作者机构：北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室 

出 版 物：《中国有色金属学报》 (The Chinese Journal of Nonferrous Metals)

年 卷 期：2005年第15卷第11期

页      面：1816-1821页

核心收录：

学科分类：0806[工学-冶金工程] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0703[理学-化学] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(10275005) 

主　　题：MEVVA技术 Fe纳米薄膜 结构 

摘      要：利用MEVVA磁过滤等离子沉积技术制备了纳米厚度的Fe颗粒薄膜,并利用原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜对其结构进行了系统分析。分析结果表明,由于磁过滤的作用,所制备的Fe纳米薄膜结构均匀,不存在由于电弧蒸发引起的大颗粒沉积现象。等离子体不同沉积角度直接影响纳米薄膜的微观结构,随着沉积角度从90°下降到30°,纳米薄膜的结构由起伏变化的纳米聚晶结构逐渐转变为尺度和表面分布均匀的纳米晶结构。经过高温热处理,相比于垂直沉积的纳米薄膜,30°倾斜沉积制备的薄膜微观结构中大晶粒的数量显著下降,形成颗粒分布较好的纳米颗粒薄膜。