Al纳米孔阵列/（AlxGa1-x）O薄膜中的紫外波段超常透射

作     者：朱文慧 冯磊 张克雄 朱俊 

作者机构：内蒙古大学物理科学与技术学院 大连理工大学集成电路学院 

出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期：2024年

核心收录：

学科分类：12[管理学] 1201[管理学-管理科学与工程(可授管理学、工学学位)] 07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 081104[工学-模式识别与智能系统] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0835[工学-软件工程] 0811[工学-控制科学与工程] 0702[理学-物理学] 0812[工学-计算机科学与技术（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家自然科学基金(批准号:62364014 12164031)资助的课题 

主　　题：(Al Ga ) O Al纳米孔阵列 局域表面等离子体共振 超常透射 

摘      要：采用有限差分时域算法计算(AlxGa1-x)2O3薄膜衬底上的周期性三角晶格Al纳米孔阵列的透过率，研究不同(AlxGa1-x)2O3衬底的Al组分x以及Al纳米孔阵列的厚度、孔径和周期对其光学传输特性的影响。数值计算结果表明，当x=0时，在263 nm和358 nm波长范围处出现两个强透射峰，随着x的增大，其中位于263 nm处的透射峰发生轻微蓝移，强度则先增强后下降；358 nm处的透射峰发生明显蓝移且不断加强。若纳米孔阵列的周期不变，随着空气柱孔径增大时，紫外波段两强透射峰峰值位置分别位于244 nm和347 nm处，两峰均先发生红移再蓝移，透过率不断增大，反射率减小。随着周期扩大，紫外波段两强透射峰分别位于249 nm和336 nm处，两透射峰均发生明显红移，其中249 nm处的透射峰红移至304 nm，336 nm处的透射峰红移至417 nm，并且透过率不断降低。随着Al厚度的增大，位于380 nm处的透射峰峰值位置发生蓝移，且透过率不断下降。