聚邻菲络啉合镍(Ⅱ)膜修饰电极测定痕量NO_2^-的研究

作     者：赵庆琦 邓锐 Zhao Qinqi Deng Rei(Dept. Chem. Zhongshan Univ. 510275)

作者机构：中山大学化学系广州510275 

出 版 物：《中山大学研究生学刊（自然科学与医学版）》 (Journal of the Graduates Sun YAT-SEN University(Natural Sciences.Medicine))

年 卷 期：1999年第20卷第4期

页      面：70-74页

学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070302[理学-分析化学] 0703[理学-化学] 

主　　题：化学修饰电极 邻菲络啉 亚硝酸根 

摘      要：运用恒电位法在光谱纯石墨电极上制备了邻菲络啉聚合膜修饰电极。研究了聚邻菲络啉膜修饰电极对NO_2^-的催化氧化性能,建立了测定NO_2^-的新方法。NO_2^-的浓度在5.0×10^(-3)～5.0×10^(-5)mol/L范围內与催化氧化峰电流呈良好的线性关系,检测限为5.0×10^(-6)mol/L,并将此法运用至模拟生物环境中直接测定NO_2^-,实验效果良好。