矢量光场调控专题导读

作     者：杨原牧 张诚 陈潋微 Yang Yuanmu;Zhang Cheng;Chen Lianwei

作者机构：清华大学精密仪器系精密测试技术与仪器国家重点实验室北京100084 华中科技大学光学与电子信息学院&武汉光电国家研究中心湖北武汉430074 中国科学院光场调控科学技术全国重点实验室四川成都610209 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室四川成都610209 中国科学院光电技术研究所矢量光场研究中心四川成都610209 

出 版 物：《光电工程》 (Opto-Electronic Engineering)

年 卷 期：2024年第51卷第8期

页      面：1-4页

核心收录：

学科分类：070207[理学-光学] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

主　　题：矢量光场 光场调控 专题 

摘      要：矢量光场,即具有可任意设计的波前和偏振态分布的光场,因其具有复用维度高、紧聚焦能力强、光场操控自由度大、手性筛选等特点,相较于均匀标量场具有更大的调控自由度和更广阔的应用前景,而引起了国内外科学家的广泛关注。如今,微纳光学的快速发展更为拓宽矢量光场调控的自由度、维度、尺度等方面提供全新契机。《光电工程》于2024年组织的“矢量光场调控专题共收到10篇来稿,包括7篇综述和3篇原创论文,旨在展现近年来矢量光场调控的国内外重要研究进展和成果,让读者对矢量光场的研究现状、趋势和应用前景有更深刻的认识,也能为相关领域研究人员提供有益的帮助。