应用于高密度多层光存储的聚合物基存储介质

作     者：段宇豪 杨凤英 丁奕同 熊英 郭少云 Yuhao Duan;Fengying Yang;Yitong Ding;Ying Xiong;Shaoyun Guo

作者机构：高分子材料工程国家重点实验室(四川大学)四川大学高分子研究所四川省橡塑材料复合成型技术工程实验室四川成都610065 

出 版 物：《高分子材料科学与工程》 (Polymer Materials Science & Engineering)

年 卷 期：2024年第40卷第7期

页      面：112-122页

核心收录：

学科分类：08[工学] 081201[工学-计算机系统结构] 0812[工学-计算机科学与技术（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(52173042) 

主　　题：光存储 存储介质 飞秒激光 多光子吸收 

摘      要：飞秒微爆多层光存储是一种新型光存储技术,它通过在介质内部记录多层数据,成倍地扩充了光盘容量极限,有望解决传统光盘容量过低的问题。但由于飞秒微爆多层光存储信息记录过程受到多种材料因素的共同影响,导致长期缺乏介质材料选择的理论依据。文中选择误码率作为光存储性能的关键指标,测试对比了不同光学树脂的光存储性能。采用相关系数量化了材料的力学性质、热性质、光学性质、介电常数和高分子链结构与光存储性能之间的依赖关系,从而揭示出光学树脂的高分子链结构才是影响光存储性能的决定性影响因素。基于此发现,在聚甲基丙烯酸甲酯材料中实现了60层高密度多层光存储信息读写测试,容量密度达到1600 Gbits/cm^(3)。