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凸点晶圆测试共性问题研究与应用

Research and Application of Common Issues for the Bump Wafer Test

作     者:祁建华 Qi Jianhua

作者机构:上海华岭集成电路技术股份有限公司上海201203 

出 版 物:《半导体技术》 (Semiconductor Technology)

年 卷 期:2012年第37卷第4期

页      面:316-320页

学科分类:08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 

主  题:凸点晶圆 凸点针痕控制 在线清针 过冲控制 凸点晶圆并行测试 通信桥接技术 

摘      要:集成电路轻、薄、小的趋势使新封装技术在产业中不断得以应用。晶圆凸点工艺作为新封装技术的关键工序尤为重要,相应的凸点晶圆测试方案是产业面临的现实问题。针对凸点晶圆测试中出现的新问题和技术难点,结合在多个凸点晶圆测试开发和量产过程中积累的成功经验,按照晶圆测试控制流程,依次阐述在凸点晶圆测试中碰到的共性问题,如针对凸点晶圆测试的新型探针卡及测试过程中针压控制、凸点损伤与量产测试中关键操作控制、在线清针与检查、工艺数据测试衔接等。并提供预防凸点损伤的过冲控制参数自动获取解决方案和凸点晶圆并行测试解决方案,实现凸点晶圆可靠的量产测试,有效提高了凸点晶圆的测试能力。

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