Analysis of the Aberration in Directly-writing Atom Lithography
Analysis of the Aberration in Directly writing Atom Lithography作者机构：中科院上海光学精密机械所 量子光学开放实验室 上海
出 版 物：《Chinese Journal of Lasers》 (中国激光(英文版))
年 卷 期：2000年第9卷第1期
页 面：76-79页
核心收录：
学科分类：08[工学] 0822[工学-轻工技术与工程]
基 金：the National Natural Science Foundation of China(69678009,19774060) the Science and Technique Development Foundation of Shanghai,China
主 题：atom lithography spherical aberration chromatic aberration
摘 要：1 Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ＳｉｎｃｅＧ．Ｔｉｍｐ＇ｓｇｒｏｕｐｏｂｓｅｒｖｅｄｌｉｇｈｔｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎｆｒｏｍｃｈａｎｎｅｌｉｚｅｄａｔｏｍｓｉｎ1992［1］，ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙｗｉｔｈＮａ，Ｃｒ，ａｎｄＡｌａｔｏｍｉｃｂｅａｍｈａｓｂ...
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