保持温度对偏轴磁控溅射法制备BiFeO_3薄膜结构和性能的影响
Effect of Retained Temperature on the Structure and Property of BiFeO_3 Thin Film Prepared by Off-axis Magnetron Sputtering Method作者机构:河北大学物理科学与技术学院保定071002
出 版 物:《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)
年 卷 期:2013年第42卷第2期
页 面:246-250页
核心收录:
学科分类:081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0703[理学-化学] 070301[理学-无机化学]
基 金:国家自然科学基金(11074063) 河北省应用基础研究计划重点项目(10963525D) 高等学校博士点基金(20091301110002)
摘 要:本文采用偏轴磁控溅射方法在Pt/TiO2/SiO2/Si(111)基片上制备了多晶BiFeO3(BFO)薄膜,并构架了Pt/BFO/Pt异质结电容器。利用X射线衍射(XRD)、铁电测试仪等手段研究了保持温度对BFO薄膜结构和性能的影响。XRD图谱表明制备的BFO薄膜均为多晶结构,在保持温度400℃±2℃的区间内得到的BFO薄膜不含明显杂相,其它的温度均有明显的杂相。在保持温度为400℃时得到了较为饱和的电滞回线,在900 nm厚度的情况下,剩余极化强度仍可以达到Pr40μC/cm2,达到了实际应用的要求Pr10μC/cm2。漏电流拟合机制表明在低场下属于欧姆机制,在高场下比较接近空间电荷限制电流(SCLC)机制。