大斯托克斯位移荧光染料研究进展
作者机构：浙江大学材料科学与工程学院硅及先进半导体材料全国重点实验室 浙江大学-安旭生物联合研发中心 杭州安旭生物科技有限公司
出 版 物：《材料导报》 (Materials Reports)
年 卷 期：2024年
学科分类：081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术]
主 题：荧光染料 大斯托克斯位移 激发态分子内质子转移 分子内电荷转移 能量转移
摘 要：染料作为一种重要的荧光材料，被广泛应用于目标物的标记与染色。然而，市售荧光染料的斯托克斯位移往往很小，其荧光信号容易受到背景激发光与染料自吸收的的干扰。过去的几十年间，许多大斯托克斯位移荧光染料被设计、合成和应用，多种扩大斯托克斯位移的机理被提出、发展和验证。本文综述了四种增大斯托克斯位移的机理，并梳理出基于三类不同骨架的大斯托克斯位移荧光染料，从引入取代基与扩大共轭体系的角度分析了大斯托克斯位移的来源。最后，总结了大斯托克斯位移荧光染料的研究进展，并以具有代表性的荧光染料为例，分析基于不同机理的大斯托克斯位移荧光染料分子的构建思路与光物理过程。
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