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锡须研究的历史与现状

The History and Present Condition of Tin Resultant Research

作     者:钟伟 管俊芳 邬博义 陈忍昌 Zhong Wei;Guan Jun-fang;Wu Bo-yi;CHEN Ren-Chang

作者机构:香港城市大学电子封装及组装暨失效分析及可靠性工程中心 武汉理工大学 

出 版 物:《电子质量》 (Electronics Quality)

年 卷 期:2005年第8期

页      面:59-63,58页

学科分类:081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

主  题:锡须 历史 现状 

摘      要:本文基于Galyon的系列综述文章,简要介绍了锡须研究的历史与现状,包括基本概念和理论,以及抑制方法。

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