低共熔溶剂中电沉积铬的研究进展

作     者：付飞娥 徐存英 栗健茹 王姝羡 FU Feie;XU Cunying;LI Jianru;WANG Shuxian

作者机构：昆明理工大学冶金与能源工程学院云南昆明650093 云南开放大学/云南国防工业职业技术学院化学工程学院云南昆明650500 复杂有色金属资源清洁利用国家重点实验室云南昆明650093 

出 版 物：《材料保护》 (Materials Protection)

年 卷 期：2024年第57卷第8期

页      面：155-167页

学科分类：081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

基　　金：国家自然科学基金(51764027) 云南省教育厅科学研究基金项目(2023J0795) 

主　　题：低共熔溶剂 铬 电沉积 研究进展 

摘      要：金属铬镀层具有硬度高、耐磨耐蚀性优良、外观优美等优点,作为装饰性和功能性镀层被广泛用于冶金、化工等行业。传统的镀铬工艺采用六价铬电镀,然而六价铬具有很强的毒性,是强致癌物质,在危害人体健康的同时污染环境。三价铬被认为是最重要、最直接有效替代六价铬电镀的工艺之一,但是水溶液中三价铬电镀存在析氢、镀层难以增厚、电流效率低等缺点,制约了三价铬的发展。寻求可替代水溶液的新型电解液体系成为三价铬电镀的研究方向之一。低共熔溶剂(DESs)作为一种新型绿色溶剂,具有制备简单、导电性好、电化学窗口宽、溶解性好等特点,克服了有机溶剂挥发性强、离子液体制备过程复杂、价格高等缺点,使其在金属电沉积方面具备广阔的应用前景。介绍了用于电沉积铬DESs的物理化学性质,以及金属离子在其中的存在形式;综述了在DESs中电沉积铬及其合金的研究进展;阐述了添加剂对DESs中电沉积铬的影响;分析了DESs体系电沉积铬存在的问题,探讨了进一步的研究方向。