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薄膜干涉的衬比度研究

Research on Contrast Ratio of Thin Film Interference

作     者:代展峰 舒俊男 刘佳芮 崔彬 蔡园园 邹斌 郭红莲 陈笑 王义全 DAI Zhanfeng;SHU Junnan;LIU Jiarui;CUI Bin;CAI Yuanyuan;ZOU Bin;GUO Honglian;CHEN Xiao;WANG Yiquan

作者机构:中央民族大学理学院北京100081 

出 版 物:《物理通报》 (Physics Bulletin)

年 卷 期:2024年第9期

页      面:128-132页

学科分类:0401[教育学-教育学] 04[教育学] 070207[理学-光学] 07[理学] 08[工学] 040102[教育学-课程与教学论] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基  金:国家自然科学基金,基金编号:61975247,61675238 中央民族大学优秀教学成果培育项目,项目编号:CG2008 北京高等教育本科教学改革创新项目,项目编号:202310052002 

主  题:薄膜干涉 衬比度 干涉条纹 

摘      要:在薄膜干涉的相关教学中,教师和学生的关注点一般在于产生干涉的位置以及干涉条纹的分布状况,对干涉条纹的衬比度往往讨论的较少,而干涉场的衬比度对基于干涉的测量与制造是非常重要的.以菲涅尔反射公式为基础,从薄膜与背景材料的折射率差和光在薄膜上的入射角两方面,研究了薄膜干涉的衬比度,得到了一些具有价值的结论,这些结论对于学生进一步理解薄膜干涉,以及基于干涉的精密测量和微结构制造,具有一定的参考价值.

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