离子束混合沉积C-SiC涂层的阻氢特性研究

作     者：杨斌 熊器 刘耀光 雷家荣 汪德志 黄宁康 YANG Bin, XIONG Qi, LIU Yao guang, LEI Jia rong WANG De zhi, HUANG Ning kang (Institute of Nuclear Science and Technology, Sichuan University·Key Laboratory for Radiation Physics and Technology of Education Ministry of China, Chengdu 610064,C

作者机构：四川大学原子核科学技术研究所.教育部辐射物理及技术重点实验室成都610064 

出 版 物：《四川大学学报（自然科学版）》 (Journal of Sichuan University(Natural Science Edition))

年 卷 期：2002年第39卷第1期

页      面：65-68页

核心收录：

学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：中国工程物理研究院科研基金 

主　　题：C-SiC 离子束混合技术 表面形貌 阻氢性能 碳-碳化硅涂层 聂击剂量 金属表达保护 

摘      要：对离子束混合技术制备的C SiC阻氢涂层进行了SEM形貌观察 ,比较了在相同组分的C SiC靶材下采用不同的Ar+ 离子轰击剂量 ,在相同的Ar+ 离子轰击剂量下采用不同组分的C SiC靶材所制备涂层的表面形貌特征 ,并由二次离子质谱 (SIMS)分析了C SiC涂层的阻氢性能 .结果表明 ,所制备C SiC涂层的表面形貌与靶材组分以及Ar+ 离子轰击剂量有关 ,不同的形貌特征对涂层的阻氢性能影响不同 .