离子束增强沉积Si_3N_4/Si多层红外干涉滤波薄膜
INFRARED FILTER FABRICATION BY ION BEAM ASSISTED DEPOSITION OF Si_3N_4 / Si FILMS出 版 物：《材料研究学报》 (Chinese Journal of Materials Research)
年 卷 期：1997年第11卷第5期
页 面：511-514页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：利用离子束增强沉积工艺，在硅基片上制备Si3N4／Si多层红外干涉滤波薄膜结果表明，N2+N的辅助轰击对于合成接近化学配比的Si3N4薄膜起了关键作用薄膜的折射率可达1.74～1.
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