软X射线Mo/B_4C多层膜应力和热稳定性研究

作     者：徐德超 王海霞 张众 朱杰 连玉红 王占山 Xu Dechao;Wang Haixia;Zhang Zhong;Zhu Jie;Lian Yuhong;Wang Zhanshan

作者机构：同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室上海200092 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2015年第27卷第6期

页      面：118-122页

核心收录：

学科分类：070207[理学-光学] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金委员会与中国工程物理研究院联合基金项目(U1430131) 上海市科委纳米项目(11nm0507200) 

主　　题：软X射线 Mo/B4C 直流磁控溅射 应力 热稳定性 

摘      要：为了实现7nm波段Mo/B4C多层膜反射镜元件的制备,研究了不同退火方式对Mo/B4C多层膜应力和热稳定性的影响。首先,采用直流磁控溅射方法分别基于石英和硅基板制作Mo/B4C多层膜样品,设计周期为3.58nm、周期数为60,Mo膜层厚度与周期的比值为0.4。其次,采用不同的退火方式对所制作的样品进行退火实验,最高退火温度500℃。最后,分别采用X射线掠入射反射、X射线散射和光学干涉仪的方法对退火前后的Mo/B4C多层膜的周期、界面粗糙度和应力进行测试。测试结果表明采用真空退火方式能够有效降低Mo/B4C多层膜的应力,且退火前后Mo/B4C多层膜的周期和界面粗糙度无明显变化,证明Mo/B4C多层膜在500℃以内具有很好的热稳定性。